紫外光催化氧化设备基本原理
光催化氧化设备选用有机废气吸附脱附一体机,集废气预处理、吸附、脱附、新风换热、催化焚烧、引风体系多种工序于一体。在吸附风机的效果下,废气首要进入前置过滤箱体,将废气中的颗粒物过滤、阻截。由前置过滤器别离进入两边吸附脱附箱体(中心设有旁路保温隔层,在有机废气检测浓度合格情况下旁通阀直接敞开排放),通过吸附层吸附净化有机废气。吸附层上方设置催化焚烧设备,当吸附层挨近饱满时,plc控制器主动封闭进气阀门,敞开催化焚烧进气阀门、催化焚烧电加热器。紫外光催化氧化设备从外部进入体系的新鲜空气,光催化氧化设备,在脱附风机的效果下经节能设备加热至必定温度后进入活性炭吸附层进行脱附,脱附后的气体进入催化焚烧器,在催化剂的效果下氧化反应为co2和h2o等物质;焚烧后的气体由排气口排出,产品无二次污染。
紫外光催化氧化设备光催化处理反响机理
光催化是一种---的氧化技能, 光催化氧化设备选用半导体材料作为催化剂, 当能量相当于半导体禁带宽度的光照射到催化剂外表时, 就会激起半导体内的电子从价带跃迁至导带,构成具有很强活性的电子2空穴对,并进一步---一系列氧化复原反响,然后到达去除污染物的意图。现在,光催化氧化设备厂家,大多数光催化剂为半导体资料, 常见的有tio2、zno、cds、wo3、fe2o3、pbs、sno2、ino3、zns、srtio3、lacoo3、sio2等十几种, 紫外光催化氧化设备按成分可分为氧化物光催化剂(如tio2、zno)、---物光催化剂(如cds、zns)和复合氧化物光催化剂(如srtio3、lacoo3)。在很多光催化剂中,因为tio2具有杰出的化学、生物和光稳定性,且没有毒性、催化活性高、价格合理、运用---,被---为是醉佳的光催化剂.
光催化氧化设备
许多经济有用的去除挥发性有机污染物的技能被广泛的研讨,其间光催化氧化法是90年代今后发展起来的处理挥发性有机废气的新办法、但现在还---处于试验研讨阶段。相较于其他的处理办法,光催化氧化法具有工艺简略、成本低、能耗低一级特色,对低浓度的vocs有---的去除作用。本文在一般的光催化氧化设备中参加波长更短、能量---的真空紫外线(uv)光源,以家---为处理目标,选用管式反应器,运用负载纳米tio2的玻璃珠和γ-al2o3小球为填料,对真空紫外线光催化法去除家---作了扼要的试验研讨,光催化氧化设备公司,经过改变反应器的运转条件,研讨了进口浓度、停留时间、相对湿度等要素对家---去除率的影响。
试验结果表明,紫外光催化氧化设备参加真空紫外线(uv)光源、延伸停留时间和较低的入口浓度,能够有用进步对家---的去除率;相对湿度在45%-60%间,气体停留时间25s,家---进口浓度60mg/m3时,家---的去除率醉高到达69%;参加负载纳米tio2的γ-al2o3小球构建的吸附—光催化二元系统对家---的去除作用---,对进口浓度改变的适应性较强,当家---进口浓度由400 mg/m3升高至800 mg/m3,光催化氧化设备其对家---的去除率由42%下降至34%,而以玻璃珠为载体时,同条件下对家---的去除率则由37%降至18%,而且运用真空紫外线光催化能够下降uv光源发生的臭氧的浓度。
光催化氧化设备
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