uv光解废气处理光催化处理反响机理
光催化是一种---的氧化技能, uv光解选用半导体材料作为催化剂, 当能量相当于半导体禁带宽度的光照射到催化剂外表时, 就会激起半导体内的电子从价带跃迁至导带,uv光解废气处理,构成具有很强活性的电子2空穴对,并进一步---一系列氧化复原反响,然后到达去除污染物的意图。现在,大多数光催化剂为半导体资料, 常见的有tio2、zno、cds、wo3、fe2o3、pbs、sno2、ino3、zns、srtio3、lacoo3、sio2等十几种, uv光解废气处理按成分可分为氧化物光催化剂(如tio2、zno)、---物光催化剂(如cds、zns)和复合氧化物光催化剂(如srtio3、lacoo3)。在很多光催化剂中,因为tio2具有杰出的化学、生物和光稳定性,且没有毒性、催化活性高、价格合理、运用---,被---为是醉佳的光催化剂.
uv光解
进口浓度对家---去除率的影响
uv光解试验光源选用一盏10w的真空紫外线(uv)灯,流量为0.6l/min,逗留时间为25s,相对湿度45%,负载p25 光催化设备的玻璃珠为uv光催化设备的填料。每距离15min从反响器出口采样,分别在uv光解反响器进口浓度为60mg/m3、100mg/m3、200mg/m3、400mg/m3。800mg/m3条件下测定家---的去除率。当家---的进口浓度由60mg/m3升高至800mg/m3时,家---的去除率由69%下降至14%。依据lagmium-hinsherwood动力学方程,在气固相光催化反响过程中,当uv光解废气处理反响物浓度很低时,uv光解光催化降解率与浓度呈正比,光催化降解表现为一级动力学方程;
跟着反响物的浓度添加,uv光解空气净化器,去除率略有所添加;而本试验所选用废气中为中低浓度的家---,当家---的浓度在这一个范围内,uv光解废气处理反响速率只与活性方位的表面反响速率常数有关,反响速率为一常数,光催化降解表现为零级反响动力学。若反响物浓度过高,uv光解,使得在反响时间内很多的家---分子未能与活性空位触摸,而直接流出反响器,导致了反响去除率的下降,一起因为家---浓度过高,反响不行完全,催化剂外表吸附了部分反响中心产品,占有了光催化反响的活性位也会导致光催化反响的功率下降。
uv光解
许多经济有用的去除挥发性有机污染物的技能被广泛的研讨,其间光催化氧化法是90年代今后发展起来的处理挥发性有机废气的新办法、但现在还---处于试验研讨阶段。相较于其他的处理办法,uv光解净化器,光催化氧化法具有工艺简略、成本低、能耗低一级特色,对低浓度的vocs有---的去除作用。本文在一般的uv光解中参加波长更短、能量---的真空紫外线(uv)光源,以家---为处理目标,选用管式反应器,运用负载纳米tio2的玻璃珠和γ-al2o3小球为填料,对真空紫外线光催化法去除家---作了扼要的试验研讨,经过改变反应器的运转条件,研讨了进口浓度、停留时间、相对湿度等要素对家---去除率的影响。
试验结果表明,uv光解废气处理参加真空紫外线(uv)光源、延伸停留时间和较低的入口浓度,能够有用进步对家---的去除率;相对湿度在45%-60%间,气体停留时间25s,家---进口浓度60mg/m3时,家---的去除率醉高到达69%;参加负载纳米tio2的γ-al2o3小球构建的吸附—光催化二元系统对家---的去除作用---,对进口浓度改变的适应性较强,当家---进口浓度由400 mg/m3升高至800 mg/m3,uv光解其对家---的去除率由42%下降至34%,而以玻璃珠为载体时,同条件下对家---的去除率则由37%降至18%,而且运用真空紫外线光催化能够下降uv光源发生的臭氧的浓度。
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